半導體技術在現代科技具有舉足輕重地位，市場引領風潮的AI、電動車、5G通訊、低軌衛星等產業都有它的身影，隨著ESG意識抬頭，製程技術朝向更高精度和能源效率發展，作為半導體製程核心技術的光學曝光系統，正面臨新挑戰與機遇。台灣企業微影半導體以創新的LED光源投影曝光機，強調無毒低碳節能的黃光生產平台，為半導體設備本土化開啟嶄新的一頁。

光學曝光系統是半導體產業關鍵技術，這類高階設備一直由國際巨頭艾司摩爾（ASML）主導，台積電在全球領先的主要原因之一，便是擁有ASML的極紫外光（EUV）技術，台灣在此領域的供應能力相對薄弱。微影半導體作為台灣首家能提供光學曝光系統解決方案的公司，成功打破壟斷局面，隨著半導體製程國產化的推進，微影的領先布局將使台灣廠商在未來大幅受益，為本土半導體產業注入強勁競爭力。

目前，半導體產業廣泛使用的光學微影系統涵蓋從早期的汞光源系統到現今的雷射系統（DUV），汞光源系統適用於線寬較寬的應用，常見於印刷電路板（PCB）或成熟製程，但能量效率低、耗電量大，並具有高毒性，對環境與人體健康構成威脅，還存在熱能產生過多，導致曝光機鏡頭出現熱漲冷縮，進而影響製程穩定性。

微影半導體董事長胡德立表示，微影核心技術源自歐美，經過整合與自主研發，成為全球首家成功採用LED光源及投影鏡頭的企業，其步進式微米級投影曝光機具有節能、環保及高性價比特點，為半導體製程帶來革命性變革。微影透過低耗能、無毒性的LED光源，不僅克服汞光源系統的諸多缺陷，也大幅提升製程穩定性和環保性。

微影的技術平台具備自動化多波長LED模型及AI洞察平台，能夠徹底改變半導體黃光生產平台，創新的整合解決方案使晶片製程更加簡單高效，更具環保性。微影的低碳設備製造技術及AI集群工具，讓客戶只需簡單操作，即可完成曝光過程，並自動搜集數據以建立大型語言模型（LLM），從而輕鬆優化製程。這一技術平台能適配多樣化的晶圓廠流程，目標是實現以AI投影步進曝光為核心的LED無毒低碳節能黃光生產平台。

目前，微影已在南科園區與客戶進行樣機測試，並計畫3年內完成募資，2027年掛牌興櫃，產品涵蓋曝光機、塗佈顯影機及檢測機，能夠為黃光段製程提供完整的解決方案。展望未來，微影將繼續推動LED光源技術的創新，不斷完善技術平台，並擴大在國際市場的影響力，引領全球半導體製造的低碳革命。